薄膜太陽能電池製程與設備
為協助業界能建立以低成本之卷軸技術生產CIGS太陽電池，開發30cm寬之R2R銅銦鎵硒太陽電池技術，其中吸收層以真空蒸鍍之技術製備薄膜。
本設備為國內自主技術開發之30cm幅寬CIGS線性共蒸鍍製程設備，可進行卷軸三階段線性四元共蒸鍍薄膜製備；本項設計技術包含DSMC噴嘴設計、溫度均勻化設計、真空高溫環境循邊及精密轉速控制、硒環境高溫加熱及超精密穩定性控制；以能達到大面積量產成膜均勻性佳之可撓式基材為目標。
專利技術：
• 蒸鍍裝置
• 捲料對位裝置
• 自動補償加熱板
• 一種循邊裝置結構改良
• 可線性蒸鍍之蒸鍍設備噴頭
• 卷對卷機台之加熱熱通量均勻化方法
• 真空軟性太陽能電池光吸收層之製程設備及其製造方法
• Vapor Deposition Equipment for Fabricating CIGS film