• 高純度。 • 高緻密度。 • 晶粒尺寸均勻及細化。 • 組織細且均勻。 • 可應用於光碟片(如鋁合金、銅合金、銀合金等靶材)、磁記錄媒體(如鈷合金、鎳合合等靶材)、顯示器及
薄膜太陽電池(如純鋁、純鉻、純鉬、ITO、AZO等靶材)、半導體元件(如高純鈦、高純鉭等靶材)之薄膜
濺鍍應用。 • 可依客製化需求，提供各式成份、純度、顯微結構、形狀、尺寸、之靶材。